稀土拋光液一般含有磨粒、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑、氧化劑等成分。各種添加劑的選擇和含量對(duì)拋光效果有很大的影響。拋光液具有技術(shù)含量高、保密性強(qiáng)、不可回收等特點(diǎn)，使其成為拋光過程中成本較高的部分。根據(jù)稀土拋光液中主要磨粒的不同，拋光液一般分為金剛石拋光液和氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、氧化硅拋光液等類型。
金剛石拋光液的磨料主要是聚晶金剛石粉，拋光時(shí)能保持較高的切削速度，不易劃傷磨料。目前主要用于藍(lán)寶石、LED芯片等的拋光。
氧化鋁拋光液以超細(xì)氧化鋁為磨料，大多數(shù)使用的顆粒是微米和亞微米。通常用于拋光陶瓷、硬盤基板、光纖連接器等。
氧化鈰拋光液是一種以氧化鈰顆粒為磨料的高性能拋光液。根據(jù)制備工藝的不同，可以獲得不同強(qiáng)度和尺寸的氧化鈰顆粒，主要有微米級(jí)和納米級(jí)。廣泛應(yīng)用于普通玻璃、光學(xué)玻璃、高精度光學(xué)儀器、晶體表面、半導(dǎo)體元件等范圍廣泛的器件。
氧化硅拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的高純低金屬離子拋光產(chǎn)品。常用于硅片和高精度光學(xué)儀器的拋光。
